氧化鋯陶瓷等離子燒結方法主要通過溫度、壓力和時間幾個參數控制燒結過程。
但氧化鋯陶瓷在燒結升溫過程中，加熱升溫是依靠發熱體對樣本的對流、輻射加熱，故其升溫速率一般較慢（小于50℃/min）。
由于氧化鋯陶瓷快速升溫對燒結和顯微結構的發展有利，人們一直試圖獲得極高的升溫速率。
而高速升溫的實現用常規的電加熱法是無法實現的。
等離子體加熱可獲得電加熱法所無法達到的極高的升溫速率。
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本文“氧化鋯陶瓷等離子燒結方法”由科眾陶瓷編輯整理，修訂時間：2015-12-05 08:11:56
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